金融界2025年5月10日消息，国家知识产权局信息显示，一塔半导体（安徽）有限公司申请一项名为“生长源管路系统和外延生长设备”的专利，公开号CN119932708A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种生长源管路系统和外延生长设备。生长源管路系统包括：载气供气管、排放管、多个生长源输送管和多个生长源供气管，排放管的一端与载气供气管连接，排放管的另一端形成为排放口；每个生长源输送管的一端与载气供气管连接，且每个生长源输送管的另一端用于与反应腔体连接；多个生长源供气管与多个生长源输送管的数量相同且分别一一对应，每个生长源供气管与对应的生长源输送管连接，且每个生长源供气管均与同一排放管连接。根据本发明实施例的生长源管路系统，通过使每个生长源供气管均与同一排放管连接，使得管路数量减少，管路排布更加简单，生长源管路系统占据空间更小，节约空间；并且，可以减少载气的使用量，降低成本。

天眼查资料显示，一塔半导体（安徽）有限公司，成立于2024年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本613.33万人民币。通过天眼查大数据分析，一塔半导体（安徽）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息20条，专利信息14条，此外企业还拥有行政许可2个。

本文源自：金融界